創新點：醫藥結晶體1um~10um濕法粉碎機，醫藥結晶體1um濕法研磨分散機，符合GMP規范標準的醫藥結晶體濕磨機
目，許多結晶體一般在40-50UM ，下游的客戶在處理這些物料有更高的要求一般需要達到5-10UM ，要么干法氣流粉碎 ，要么濕法粉碎 且粉碎過程中要保證晶體的形狀，以及粒度的均一性。
干磨產生大量灰塵，從而需要配備適當的過濾系統。當研磨其粉塵與大氣氧氣混合會產生爆炸性混合物的物質時，這一點尤其重要。達到規定的安全等通常需要精心設計的技術解決方案，如除塵和惰性氣體覆蓋系統。這些過濾系統的成本通常大大超出實際研磨機的成本。濕磨被用于醫藥工業的許多應用中，并且取得了良好的效果，因為它非常適用于API（活性藥用成分）。
濕磨機濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案，基于轉子-定子原理。
用轉子-定子置濕磨此類物質具有諸多好處：
1、 研磨得到的細顆粒被直接融 合到懸浮液中，因而從開始就避免了灰塵的形成；
2 、與干磨系統不同，被研磨的物質保持在系統內，從而大幅減少了損失。因此，濕磨非常適合有機化學品，尤其是優質物質，或者有毒物質的研磨；
3、相對干磨過程而言，濕磨的產品進料和計量較容易。
醫藥結晶體濕法粉碎機，濕磨機是在傳統膠體磨的基礎上改進的一款除了研磨效果以外更添加可高速剪切分散頭，使得物料在研磨粉碎的瞬間立即被高剪切分散。
設備結構：先由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每都可以改變方向。第二由轉定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列，還有一個很重要的區別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。根據以往的慣例，依據以往的經驗來選取工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數情況下，機器的構造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。
CMSD2000系列醫藥結晶體濕法粉碎機，濕磨機選型表
| 型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
| CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
| CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
| CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
| CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
| CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到大允許量的10%
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關鍵詞：醫藥結晶體1um~10um濕法粉碎機 醫藥結晶體1um濕法研磨分散機 符合GMP規范標準的醫藥結晶體濕磨機
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